C: Beth yw'r prif gategorïau o brosesau passivation ar gyfer coiliau galfanedig yn seiliedig ar eu cyfansoddiad cemegol?
A: Fe'u rhennir yn bennaf yn ddau gategori: goddefiad cromad a goddefiad cromiwm-rhydd. Mae passivation cromad yn defnyddio cyfansoddion cromiwm chwefalent, sydd â gwrthiant cyrydiad rhagorol ond sy'n wenwynig, ac mae cyfyngiadau amgylcheddol yn dod yn fwyfwy llym. Mae goddefiad rhydd cromiwm yn broses amgen sy'n gyfeillgar i'r amgylchedd, ac mae mathau cyffredin yn cynnwys goddefiad cromiwm trifalent, goddefiad silane, goddefiad halen zirconiwm titaniwm, a goddefiad cyfansawdd organig.
C: Beth yw nodweddion penodol a mecanwaith passivation cromad?
A: Mae goddefiad cromad yn broses draddodiadol sy'n cynnwys trochi neu rolio coiliau galfanedig â hydoddiant asidig sy'n cynnwys cromiwm chwefalent, gan ffurfio ffilm trawsnewid cyfansawdd sinc cromiwm ar wyneb yr haen sinc. Mae gan y ffilm hon allu i wella ei hun a gall wrthsefyll chwistrell halen am dros 120 awr. Fodd bynnag, mae cromiwm chwefalent yn garsinogen, ac mae trin dŵr gwastraff yn gostus; felly, mae’n cael ei ddirwyn i ben yn raddol ar hyn o bryd.
C: Beth yw'r tebygrwydd a'r gwahaniaethau rhwng passivation cromiwm trifalent a passivation cromiwm hecsfalent?
A: Mae passivation cromiwm trifalent yn defnyddio halwynau cromiwm trifalent yn lle cromiwm chwefalent ac ar hyn o bryd dyma'r broses drawsnewid prif ffrwd sy'n gyfeillgar i'r amgylchedd. Mae ei fecanwaith ffurfio ffilm yn debyg, ond nid oes gan yr haen ffilm allu hunan-iacháu, ac mae ei wrthwynebiad cyrydiad ychydig yn is na chromiwm chwefalent (amser chwistrellu halen tua 72-96 awr). Mae gan gromiwm trivalent wenwyndra is ac mae'n cydymffurfio â chyfarwyddebau RoHS, ond mae gan yr ateb goddefol sefydlogrwydd tlotach, sy'n gofyn am reolaeth lem ar pH a thymheredd.
C: Beth yw egwyddor weithredol passivation silane? Beth yw ei gymwysiadau addas?
A: Mae passivation silane yn defnyddio asiant cyplu organosilane sydd, ar ôl hydrolysis, yn cael adwaith cyddwyso gyda'r grwpiau hydrocsyl ar yr wyneb haen sinc, gan ffurfio rhwydwaith cofalent Si{0}}O{{1}Zn trwchus Si{0}}O{{1}Zn. Mae'r ffilm uwch-denau hon (50-200 nm) nid yn unig yn rhwystr ffisegol ond hefyd yn gwella adlyniad haenau dilynol. Mae'n addas ar gyfer cymwysiadau sy'n gofyn am allyriadau ïon metel hollol sero, ond mae angen glendid pretreatment hynod o uchel.
C: Beth yw manteision passivation cyfansawdd halen zirconium titaniwm? Pa brosesau eraill sy'n rhydd o gromiwm sydd yno?
A: Mae goddefiad halen zirconiwm titaniwm yn seiliedig ar system asid fflworotitanig neu asid fflworozirconic, gan ddyddodi nanofilm ocsid cymysg ar haen sinc. Mae ei wrthwynebiad cyrydiad yn agos at wrthwynebiad cromiwm trifalent, ac mae ganddo fywyd bath hir. Mae prosesau eraill sy'n rhydd o gromiwm yn cynnwys goddefiad resin organig (fel haenau resin acrylig ac epocsi) a goddefiad asid ffytig. Mae'r cyntaf yn blocio cyfryngau cyrydol trwy ffilm organig, tra bod yr olaf yn defnyddio asid ffytig i gelu ïonau sinc i ffurfio haen amddiffynnol drwchus, ond mae'n ddrutach.